Substrati LiAlO2

Substrati LiAlO2 i referohet një nënshtrese të bërë nga oksid alumini litium (LiAlO2).LiAlO2 është një përbërje kristalore që i përket grupit hapësinor R3m dhe ka një strukturë kristalore trekëndore.

Nënshtresat LiAlO2 janë përdorur në një sërë aplikimesh, duke përfshirë rritjen e filmit të hollë, shtresat epitaksiale dhe heterostrukturat për pajisjet elektronike, optoelektronike dhe fotonike.Për shkak të vetive të shkëlqyera fizike dhe kimike, është veçanërisht i përshtatshëm për zhvillimin e pajisjeve gjysmëpërçuese me brez të gjerë.

Një nga aplikimet kryesore të substrateve LiAlO2 është në fushën e pajisjeve të bazuara në nitrid galium (GaN) si transistorët me lëvizshmëri të lartë të elektroneve (HEMT) dhe diodat që lëshojnë dritë (LED).Mospërputhja e rrjetës midis LiAlO2 dhe GaN është relativisht e vogël, duke e bërë atë një substrat të përshtatshëm për rritjen epitaksiale të filmave të hollë GaN.Nënshtresa LiAlO2 ofron një shabllon me cilësi të lartë për depozitimin e GaN, duke rezultuar në përmirësimin e performancës dhe besueshmërisë së pajisjes.

Nënshtresat LiAlO2 përdoren gjithashtu në fusha të tjera si rritja e materialeve ferroelektrike për pajisjet e kujtesës, zhvillimi i pajisjeve piezoelektrike dhe fabrikimi i baterive në gjendje të ngurtë.Vetitë e tyre unike, të tilla si përçueshmëria e lartë termike, qëndrueshmëria e mirë mekanike dhe konstanta e ulët dielektrike, u japin atyre përparësi në këto aplikime.

Në përmbledhje, substrati LiAlO2 i referohet një substrati të bërë nga oksid alumini litium.Nënshtresat LiAlO2 përdoren në aplikime të ndryshme, veçanërisht për rritjen e pajisjeve të bazuara në GaN dhe zhvillimin e pajisjeve të tjera elektronike, optoelektronike dhe fotonike.Ato zotërojnë veti fizike dhe kimike të dëshirueshme që i bëjnë të përshtatshme për depozitimin e filmave të hollë dhe heterostrukturave dhe përmirësojnë performancën e pajisjes.